SF6可用于射频芯片蚀刻，凭借高浓度氟自由基释放能力，适合硅、氮化硅等材料的高精度蚀刻，尤其在深槽、电感等射频关键结构制造中应用广泛。通过与O2、C4F8等气体混合，可优化选择性与各向异性，满足射频芯...
