SF6在半导体芯片制造中用于等离子体蚀刻等关键工艺，泄漏会引发温室效应及工艺异常。泄漏检测方法需结合需求选择：在线实时监测优先非分散红外吸收法，精准定性定量选气相色谱-质谱联用法，泄漏点定位用超声波检...

航空航天设备中SF6泄漏检测主流方法包括非分散红外吸收法（NDIR）、电子捕获检测法（ECD）、质谱法、超声波检测法及量子级联激光吸收光谱法（QCLAS）。NDIR适合现场快速检测，ECD用于痕量定量...