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化学气相沉积后残留物难清理？六氟化硫清洗方案解锁工业制程清洁新效率
针对半导体、光伏等领域化学气相沉积制程后腔体残留清理难、传统模式效率低损耗大的痛点，推出电子级六氟化硫等离子体原位清洗方案，可大幅压缩清理耗时、降本提效，需匹配对应参数，适配高端制造清洁需求。...
2026-09-17
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