六氟化硫（SF6）在等离子蚀刻中通过等离子体分解产生高活性F自由基和SFx离子，结合化学蚀刻（F与材料反应生成挥发性氟化物）与物理蚀刻（离子轰击增强方向性），实现对硅、金属等材料的高精度、高选择性蚀刻...

SF6在等离子蚀刻中，通过射频电源激发分解为活性氟自由基与正离子，结合化学蚀刻（与材料反应生成挥发性氟化物）和物理蚀刻（离子定向轰击）的协同作用，实现对硅、金属等材料的高精度各向异性蚀刻，是半导体制造...