SF6在半导体芯片制造中主要用于等离子体刻蚀工艺，通过射频放电形成等离子体，经电子碰撞分解产生F·、SF5·等活性自由基及带电粒子。这些物种与晶圆表面的硅、氮化硅等材料发生化学反应，生成挥发性产物，结...
