在半导体芯片制造的等离子体刻蚀工艺中，SF6经射频电场电离生成氟自由基（F·）等活性物种，与光刻胶聚合物链发生夺氢反应与链断裂，形成CF4、C2F6等挥发性产物，结合离子轰击的物理作用实现高效刻蚀。反...
