六氟化硫（SF6）在等离子蚀刻中通过等离子体分解产生高活性F自由基和SFx离子，结合化学蚀刻（F与材料反应生成挥发性氟化物）与物理蚀刻（离子轰击增强方向性），实现对硅、金属等材料的高精度、高选择性蚀刻...
