SF6在半导体芯片制造中用于等离子体蚀刻等关键工艺，泄漏会引发温室效应及工艺异常。泄漏检测方法需结合需求选择：在线实时监测优先非分散红外吸收法，精准定性定量选气相色谱-质谱联用法，泄漏点定位用超声波检...
在半导体芯片制造中，SF6泄漏检测方法各有优劣：傅里叶变换红外光谱法适合大面积实时监测但成本高易受干扰；电子捕获检测器灵敏度极高但选择性差；气相色谱-质谱联用法检测精准但周期长成本高；固态电化学传感器...
SF6作为高效制冷剂广泛应用于电力、制冷领域，其泄漏检测需结合定性排查、定量监测与精准定位三类方法。主流方法包括红外吸收式定量检漏（精度1ppmv）、电化学在线监测、压力衰减整体检测、示踪剂微小泄漏定...