SF6可用于半导体芯片特定金属层蚀刻，尤其适用于钨等难熔金属。其在等离子体中分解产生氟离子，与金属反应生成挥发性氟化物实现蚀刻，需精确控制工艺参数。虽为强温室气体，但在高端制程中仍有应用，行业正研发低...

SF6中毒多因分解产物（如氟化氢）致病，急救需分步骤实施：救援人员做好专业防护，迅速转移患者至新鲜空气区域，评估生命体征并必要时行心肺复苏；保持呼吸道通畅，高流量吸氧，处理皮肤眼睛损伤；送医后完善检查...