在芯片SF6刻蚀环节，可通过精准调控SF6注入参数、采用先进ICP/ECR等离子体源、优化刻蚀腔室设计、建立SF6回收循环系统、引入AI智能监测调控等策略协同降低能耗。这些措施基于SEMI、IEEE等...
