SF6在激光技术中主要作为工作气体、绝缘保护介质及光刻激光器混合组分，不同场景纯度要求差异显著：工作气体场景需达99.999%以上，严格控杂质；绝缘保护场景需达99.99%以上；半导体光刻应用要求99...
