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  • 半导体芯片制造中,SF6气体的干燥处理有何要求?

    在半导体芯片制造中,SF6气体干燥处理需严格控制水分含量,先进制程(7nm及以下)要求低于0.5ppm,常规制程需低于1ppm。主流采用吸附、低温精馏或膜分离技术,结合在线卡尔费休法监测、管道抛光烘烤...

    2026-04-17 997
  • 六氟化硫在电网净化设备中如何脱除水分?

    SF6是电网高压设备的核心绝缘介质,水分超标会引发绝缘强度下降、设备腐蚀等风险。其脱除技术涵盖源头管控(新气吸附干燥)、在线净化(吸附/膜分离装置)、离线应急处理(真空抽气/循环干燥),需遵循GB/T...

    2026-04-15 242
  • 六氟化硫气体回收设备的主要组成部分有哪些?

    SF6气体回收设备主要由气体回收与输送、净化干燥、存储与缓冲、控制与监测、辅助与安全五大单元组成,涵盖压缩机、真空泵、吸附干燥器、PLC控制系统等核心组件,遵循国际国内标准实现SF6气体的回收、净化、...

    2026-04-15 16