SF6凭借强氧化性在等离子体中高效生成高活性F自由基，与半导体材料反应生成挥发性产物实现快速刻蚀；结合钝化气体协同作用，通过交替刻蚀-钝化周期实现高各向异性，满足100:1以上深宽比结构的刻蚀需求，同...
