SF6在半导体接触层蚀刻中适用于成熟制程硅基接触孔的快速蚀刻，但因对介质层选择性低、温室效应高，需搭配辅助气体优化工艺；先进制程中多被含碳氟或含氯混合气体替代，当前行业应用占比约12%，主要集中在成熟...
