SF6凭借高刻蚀速率、优异的各向异性与选择性，在芯片高深宽比刻蚀中广泛应用于3D NAND存储器件的沟槽/孔刻蚀、先进逻辑器件的FinFET/GAA结构刻蚀、功率半导体的深槽刻蚀，以及集成式MEMS器...
