SF6在半导体芯片制造中可替代CF4、C2F6、CHF3、Cl2、BCl3等传统蚀刻气体，分别用于介质层高精度刻蚀、低k介质低损伤刻蚀及难熔金属层刻蚀，具有刻蚀选择性高、器件损伤小、设备维护成本低等优...
